スパコン
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IBM,high-k絶縁膜用ハフニウムの特性解析にスパコン「Blue Gene」を活用
米IBMは,高誘電率(high-k)絶縁膜と金属ゲート電極によるトランジスタを開発する過程で,スーパーコンピュータを使って新素材である二酸化ハフニウム(HfO2)の特性シミュレーションを行った。IBMがスイスで現地時間2月26日に明らかに…
米IBMは,高誘電率(high-k)絶縁膜と金属ゲート電極によるトランジスタを開発する過程で,スーパーコンピュータを使って新素材である二酸化ハフニウム(HfO2)の特性シミュレーションを行った。IBMがスイスで現地時間2月26日に明らかに…
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