2018年 8月 12日

  1. 2-(トリメチルシリル)エトキシカルボニル保護基 Teoc Protecting Group

    概要2-(トリメチルシリル)エトキシカルボニル(2-(trimethylsilyl)ethoxycarbonyl, Teoc)基は、カルバメート形成によってアミンの保護目的に多用される。強塩基によるエステル加水分解条件・求核条件・弱…

スポンサー

ピックアップ記事

  1. 第20回ケムステVシンポ『アカデミア創薬 A to Z』を開催します!
  2. Advanced Real‐Time Process Analytics for Multistep Synthesis in Continuous Flow
  3. 「化学と工業」読み放題になったの知ってますか?+特別キャンペーン
  4. 超分子カプセル内包型発光性金属錯体の創製
  5. 第57回―「アニオン認識の超分子化学」Phil Gale教授
  6. 第41回ケムステVシンポ「デジタル化社会における化学研究の多様性」を開催します!
  7. 第17回ケムステVシンポ『未来を拓く多彩な色素材料』を開催します!

注目情報

最新記事

MEDCHEM NEWS 34-1 号「創薬を支える計測・検出技術の最前線」

日本薬学会 医薬化学部会の部会誌 MEDCHEM NEWS より、新たにオープン…

医薬品設計における三次元性指標(Fsp³)の再評価

近年、医薬品開発において候補分子の三次元構造が注目されてきました。特に、2009年に発表された論文「…

AI分子生成の導入と基本手法の紹介

本記事では、AIや情報技術を用いた分子生成技術の有機分子設計における有用性や代表的手法について解説し…

第53回ケムステVシンポ「化学×イノベーション -女性研究者が拓く未来-」を開催します!

第53回ケムステVシンポの会告です!今回のVシンポは、若手女性研究者のコミュニティと起業支援…

Nature誌が発表!!2025年注目の7つの技術!!

こんにちは,熊葛です.毎年この時期にはNature誌で,その年注目の7つの技術について取り上げられま…